Zahra
Jahanshah Rad
väitöskirjatutkija, fysiikan ja tähtitieteen laitos
projektitutkija, materiaalitutkimuksen laboratorio
MSc
Ota yhteyttä
Linkit
Julkaisut
Polycrystalline silicon, a molecular dynamics study: II. Grains, grain boundaries and their structure (2024)
Modelling and Simulation in Materials Science and Engineering
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä )
Dry cleaning of InSb surfaces by hydrogen molecule exposure in ultrahigh vacuum (2024)
Applied Surface Science
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä )
Polycrystalline silicon, a molecular dynamics study: I. Deposition and growth modes (2024)
Modelling and Simulation in Materials Science and Engineering
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä )
Effects of Ultrahigh Vacuum Treatments on Wet Chemically Cleaned Si Surfaces (2023)
Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces, Solid State Phenomena
(Vertaisarvioitu artikkeli konferenssijulkaisussa (A4))
Reversible oxygen-driven c(4 x 4) ↔ (1 x 2) phase transition on the Ba/Ge (100) surface (2023)
Applied Surface Science
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))
Quantifying the Impact of Al Deposition Method on Underlying Al2O3/Si Interface Quality (2023)
physica status solidi (a)
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))
Surface Passivation of Germanium with ALD Al2O3: Impact of Composition and Crystallinity of GeOx Interlayer (2023)
Crystals
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä )
Properties and modification of native oxides of InP(100) (2023)
Journal of Physics D: Applied Physics
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))
Controlling the fixed negative charge formation in Si/high-k interfaces (2022)
Physical Review Materials
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))
Effects of post oxidation of SiO2/Si interfaces in ultrahigh vacuum below 450 °C (2022)
Vacuum
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))