Zahra
Jahanshah Rad
väitöskirjatutkija, fysiikan ja tähtitieteen laitos
projektitutkija, materiaalitutkimuksen laboratorio
MSc
Ota yhteyttä
Linkit
Julkaisut
Polycrystalline silicon, a molecular dynamics study: II. Grains, grain boundaries and their structure (2024)
Modelling and Simulation in Materials Science and Engineering
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä )
Dry cleaning of InSb surfaces by hydrogen molecule exposure in ultrahigh vacuum (2024)
Applied Surface Science
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä )
Polycrystalline silicon, a molecular dynamics study: I. Deposition and growth modes (2024)
Modelling and Simulation in Materials Science and Engineering
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä )
Quantifying the Impact of Al Deposition Method on Underlying Al2O3/Si Interface Quality (2023)
physica status solidi (a)
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))
Surface Passivation of Germanium with ALD Al2O3: Impact of Composition and Crystallinity of GeOx Interlayer (2023)
Crystals
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä )
Properties and modification of native oxides of InP(100) (2023)
Journal of Physics D: Applied Physics
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))
Effects of Ultrahigh Vacuum Treatments on Wet Chemically Cleaned Si Surfaces (2023)
Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces, Solid State Phenomena
(Vertaisarvioitu artikkeli konferenssijulkaisussa (A4))
Reversible oxygen-driven c(4 x 4) ↔ (1 x 2) phase transition on the Ba/Ge (100) surface (2023)
Applied Surface Science
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))
Controlling the fixed negative charge formation in Si/high-k interfaces (2022)
Physical Review Materials
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))
Effects of post oxidation of SiO2/Si interfaces in ultrahigh vacuum below 450 °C (2022)
Vacuum
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))