Pekka
Laukkanen
dosentti, fysiikan ja tähtitieteen laitos
yliopistotutkija, materiaalitutkimuksen laboratorio
Ota yhteyttä
Asiantuntijuusalueet
pintatiede
puolijohde
pinnan passivointi
ohutkalvot
Julkaisut
Quantifying the Impact of Al Deposition Method on Underlying Al2O3/Si Interface Quality (2023)
physica status solidi (a)
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))
Effects of Ultrahigh Vacuum Treatments on Wet Chemically Cleaned Si Surfaces (2023)
Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces, Solid State Phenomena
(Vertaisarvioitu artikkeli konferenssijulkaisussa (A4))
Efficient surface passivation of germanium nanostructures with 1% reflectance (2023)
Nanotechnology
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))
Plasma-enhanced atomic layer deposited SiO2 enables positive thin film charge and surface recombination velocity of 1.3 cm/s on germanium (2023)
Applied Physics Letters
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä )
Properties and modification of native oxides of InP(100) (2023)
Journal of Physics D: Applied Physics
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä )
Atomic Level Chemical and Structural Properties of Silicon Surface and Initial Stages of Oxidation (2023)
Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces, Solid State Phenomena
(Vertaisarvioitu artikkeli konferenssijulkaisussa (A4))
Controlling the fixed negative charge formation in Si/high-k interfaces (2022)
Physical Review Materials
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))
The structural origin of the efficient photochromism in natural minerals (2022)
Proceedings of the National Academy of Sciences of the United States of America
(A1 Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tieteellisessä lehdessä )
Reusable radiochromic hackmanite with gamma exposure memory (2022)
Materials Horizons
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))
Effects of thermal vacuum nitridation of Si(100) surface via NH3 exposure (2022)
Thin Solid Films
(Vertaisarvioitu alkuperäisartikkeli tai data-artikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä (A1))